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您的溅镀制程令您不甚满意吗？

AE 的高级现场应用工程师 Doug Pelleymounter, A拥有超过33年处理各种具有挑战性应用问题的实际操作经验。在本专栏中，Doug 将为您解答一些应用难题。请将您的问题或评论提交至 sputtering@aei.com。 

1. 我正在设置一项工艺，现在想咨询一个与射频 (RF) 电源有关的问题。采用电压或功率模式操作工艺的优缺点分别有哪些？采用固定功率或固定电压模式操作工艺能获得相同的薄膜属性吗？
2. 我们将采用单磁控阴极对二氧化钛薄膜的光学应用进行研究。靶材将是使用脉冲直流电电源的二氧化钛。基材最高将加热至摄氏350度，我们将使用氧气和氩作为加工气体。请为我们推荐一个脉冲直流电源和最佳的工艺参数，以便获得一个很好的密集型薄膜以及很高的沉积速率。二氧化钛能达到的最高沉积速率是多少？二氧化硅呢？
3. 我的真空室内没有足够的空间供我在双靶磁控系统中使用直流电。能有合适的替代方法吗？
4. 我听说射频/直流电的配置非常复杂。需要防止的主要隐患有哪些？

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• 请教 DOUG！

您的溅镀制程令您不甚满意吗？

AE 的高级现场应用工程师 Doug Pelleymounter, 拥有超过32年处理各种具有挑战性应用问题的实际操作经验。在本专栏中，Doug 将为您解答一些应用难题。请将您的问题或评论提交至 sputtering@aei.com。 

1. 使用平面和可旋转靶材有何不同？
2. 平面和可旋转靶材的不同侵蚀类型是如何在其靶材使用寿命期间影响制程的？
3. 一般来说，前面您已经提到，脉冲直流电源和交流电源生产出的薄膜质量比普通直流电源要高。那么，它们生产的薄膜质量实际上究竟有何不同？
4. 我该怎样优化我的溅镀率？
5. 我听说有一种即将推出的 HPPMS 技术可以生产极其平整而均匀的薄膜，但是现在还没有广泛推出。有没有其他选择可以用现有的设备生产出类似质量的薄膜？