Advanced Energy 的 E'Wave^® 双极脉冲直流电源改善了表面均匀性，减少了DDPF工艺流程 (dual-damascene process flow, DDPF) 应用的镀铜阶段之附加消耗，包括在生产环境和铜工艺开发中的晶圆电镀。E'Wave 电源提供多达三个通道，每个都有一个独立驱动的双极电源，能够生成、存储和运行多达15个由电流控制或由电压控制的波形。