Ovation™ 全整合供电系统通过采用一种独特的供电方案，能够实现更快、更精确的工艺过程，如要求严格的窄线宽、介电质蚀刻工艺。该系统首次在无需外部传感器的情况下，为非 50-ohm 环境供电，反应比传统电源更快。60-MHz 的设计减小了整个等离子鞘层的电压势能，最大限度地减小了离子蚀刻损伤，从而提高了薄膜品质和产量。

优势	特点
拓宽了工艺窗口 拓展了工艺能力 改善了等离子特性 提高了蚀刻率、选择性和均匀性 降低了持有成本	2760 W、60 MHz（关于更大功率要求，请联系工厂） 扫描频率 非50 Ù 测量能力 模拟、RS-232 以及以太网控制选择 体积更小——是功率达2.7 kW 的支架选择的一半  非常稳定、可靠 专家应用支持